离心研磨抛光机的研磨原理和机械结构概况(续三)


 离心研磨抛光机的研磨原理和机械结构概况(续三)

接《离心研磨抛光机的研磨原理和机械结构概况(续二)》

我们在《离心研磨抛光机的研磨原理和机械结构概况(续一)》和《离心研磨抛光机的研磨原理和机械结构概况(续二)》中,讨论了离心研磨抛光机的结构组成、传动方式、研磨原理等,事物都是一分为二的,下面我们讲讲离心研磨抛光机的不足部分。

使用离心研磨抛光机抛磨能大大减少人工的投入,但缺点是因为滚筒体积的限止,太大的工件不能适应。离心研磨抛光机在抛光磨时因为每个滚筒是密封的,所以在机器高速转动时筒内的温度会很快上升,这个温度正适合于抛光研磨材料如:抛光研磨液抛光光亮剂产生化学反应,它们的反应正适合于软化工件表面氧化层和毛刺等,促使工件表面的毛刺、氧化皮被研磨抛光磨料更容易地去除,也就是因为高速转动和抛光研磨液在筒内的化学反应,使筒内的压强增加,加剧研磨抛光磨料与工件的磨削。

下面将该机常用规格列表如下以供参考。

型号
Type

容量
L

外型尺寸
mm

滚筒转速
r/min

功率
kw

筒内径
mm

重量
kg

LXW30

4×7.5

900×900×1200

180

1.5-4

8-15

350

LXW36

4×9

1000×950×1300

160

.5×6

8-15

400

LXW40

4×10

1050×1000×1350

160

2.2-6

8-15

450

LXW60

4×15

1250×1200×1650

150

4-6

8-15

600

LXW80

4×20

1400×1300×1700

140

5.5-6

8-15

800

LXW120

4×30

1500×1500×1800

130

5.5-6

8-15

1300

文章来源:http://www.5566jy.com